【イニシャル IQ SQIN】イニシャル IQ ONE SQINシステムのフレームワークデザインはどのように設計したらよいですか？

ジルコニアまたは二ケイ酸リチウムのフレームを頬側0.2～0.6mmカットバックしてください。 詳細表示

【イニシャル IQ SQIN】イニシャル ONE SQINシステムは、イニシャルLiSiブロックにも使用できますか？

使用可能です。 ■ステイニング時の焼成スケジュール（例） ・LiSiブロックの場合、焼成によって色調が明るくなることがあります。その場合はステインによる色調調整を行ってください。 ・焼成スケジュールは、焼成炉とその機能に応じた調整が必要ですので、上記は目安とお考えください。 ■マイクロレイヤリング... 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】焼成温度はラスターペーストと同じですか？

ラスターペーストONEは、ラスターペーストと同様の焼成温度範囲です。 ※ラスターペーストONEは、真空焼成をおすすめします。 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】形態修正後の表面性状を消失させることなく使用するには、どのようにすればよいですか？

ラスターペーストONEを最適な濃度に希釈し、薄く塗布することで、表面の質感を残すことが可能です。 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】焼成スケジュールを教えてください。

■ステイニングとして使用時の焼成スケジュール（例） ※1　イニシャルLiSiブロックの焼成温度：730-750℃ 　　 LiSiブロックの場合、焼成によって色調が明るくなることがあります。その場合はステインによる色調調整を行ってください。 ・焼成スケジュールは、焼成炉とその機能に応じた調整が必要ですので... 詳細表示