【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】形態修正後の表面性状を消失させることなく使用するには、どのようにすればよいですか？

ラスターペーストONEを最適な濃度に希釈し、薄く塗布することで、表面の質感を残すことが可能です。 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】どの陶材に使用できますか？

ラスターペーストONEは、6.9～13.3 10-6xK-1のCTE範囲に対応しているため、イニシャルセラミックの全種類とほぼ同じ種類のセラミックに対応しています。 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】最適な蛍光性と光沢を得るにはどうしたらよいですか？

ラスターペーストONEは、従来のステインやグレーズよりも厚めに塗布するのが理想的です。厚めに塗布することで、均一で最適な蛍光性と光沢を得ることができます。 ラスターペーストONEは、希釈しすぎたり、薄く塗りすぎたりすると、蛍光性は弱まります。光沢についても同様です。 望ましい蛍光性や光沢が得られない場合、2層... 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】焼成しても光沢が出ない場合はどのようにすればよいですか？

焼成温度を確認し、最終温度を上げてください。 また、ラスターペーストONEをリフレッシュリキッドで薄め過ぎた場合や薄く塗布した場合も、光沢が弱くなります。 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】平均的な塗布量（厚み）を教えてください。

テクニック、希釈率、塗布の仕方により異なりますが、約0.05㎜~0.1㎜です。 詳細表示

【イニシャル IQ SQIN】SQINを築盛する前の最初のコネクションレイヤーとして、ラスターペーストONEを築盛する場合の使用方法を教えてください。

使用ステップは下記の通りです。 ①ジルコニアまたは二ケイ酸リチウムのフレーム表面を軽くサンドブラスト 　(アルミナ50μｍ 1.5気圧） ②スチームクリーナーをかけて清掃 ③ラスターペーストONEを築盛し、焼成 ④焼成後のラスターペーストONEに軽くサンドブラストし、最適な濡れ性を確保 ⑤SQINパウ... 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】レイヤリングテクニックを用いたクラウンの色調と明るさの修正はできますか？

ラスターペーストONEでの色調修正はテクニカルマニュアルをご参照ください。 以下のリンク先をご確認ください。 Initial_IQ-Onebody_テクニカルマニュアル 詳細表示

【イニシャル IQ ラスターペースト ONE】焼成温度はラスターペーストと同じですか？

ラスターペーストONEは、ラスターペーストと同様の焼成温度範囲です。 ※ラスターペーストONEは、真空焼成をおすすめします。 詳細表示

【イニシャル IQ SQIN】イニシャル ONE SQIN システムのセラミックスは、全てのジルコニアや二ケイ酸リチウムに使用できますか？

使用可能ですが、使用する材料の焼成温度と熱膨張係数を確認し、ご使用下さい。 詳細表示

【イニシャル IQ SQIN】イニシャル IQ ONE SQINシステムのフレームワークデザインはどのように設計したらよいですか？

ジルコニアまたは二ケイ酸リチウムのフレームを頬側0.2～0.6mmカットバックしてください。 詳細表示